「Intelが超微細プロセスの量産に対応する高NA EUV露光装置をASMLに発注 | TECH+」

IntelとASMLは1月19日(現地時間)、IntelがASMLの現行の開口率NA=0.33のEUV露光装置の次世代機となるNA=0.55の高NA EUV露光装置の量産対応機「TWINSCAN EXE:5200」の購入に向けた最初の発注を行ったことを明らかにした。

news.mynavi.jp

Webページ

コンテンツ文字数：0 文字

見出し数（H2/H3タグ）：0 個

閲覧数：126 件

2022-01-23 11:01:52

オリジナルページを開く

B!